216GD61A HESG324436R3/A HESG324428 ABB
70年代是PLC,首先在汽车工业获得大量应用,在其它产业部门也开始应用的时期。80年代是它走向成熟,全面采用微电子及微处理器技术;大量推广应用,并奠定其在工业控制中不可动摇地位的时期。在此阶段PLC销售始终以两位数百分点的速度增长,前六年的增长率超过35%,后四年稳定发展,年增长率约12%。90年代又开始了它的第三个发展时期。随着PLC的标准IEC 61131的正式颁布,推动了PLC在技术上发动新的突破:在系统体系结构上,从传统的单机向多和分布式及远程控制系统发展;在编程语言上,文本化和图形化的语言多样,创造了具表达控制要求、文字处理、通信能力的编程环境。
从应用范围和应用水平上,除了继续发展机械加工自动生产线的控制系统外,则是发展以PLC为基础的DCS系统、和数据采SA系统、柔制造系统(FMS)、安全联锁保护(ESD)系统、运动控制系统等,全方位地产提高PLC的应用范围和水平。
进入90年代后期,由于用户对开放的强烈要求和压力,由于技术的大力推动,PLC如果还停留在原有的专用而又封闭的系统概念上,它将坐以待毙。于是PLC进入了其发展的第四阶段。其特征是:
在保留PLC功能的前提下,采用面向现场总线网络的体系结构,采用开放的通信接口,如以太网、高速串口等。
采用各种相关的工业标准和一系列的事实上的标准。
值得注意的是PLC和DCS这些原来处于不同硬件平台的系统,正随着计算技术、通信技术和编程技术的发展,趋向于建立同一硬件平台,运用同一个操作系统、同一个编程系统,执行不同的DCS和PLC功能。这就是真正意义上的EIC三电一体化。或者说DCS和PLC的形态将会变化,而它们的功能依然存在。其中的关键技术应该是嵌入式PC系统及支持现场总线的I/O(硬件),以及以IEC 61161-3为基础的编程系统及强实时(hard real-time)操作系统。
PLC在中国的发展
Oil Rotary Piston Vacuum Pump WSSR 7.5K
Roots Vacuum Pump FRU1440 NIB
EC150L NASH VACUUM PUMP SYSTEM
EIM275 EDWARDS VACUUM PUMP, 8.5 KW
EIM275 EDWARDS VACUUM PUMP, 8.5 KW
EIM275 EDWARDS VACUUM PUMP, 8.5 KW
EIM275 EDWARDS VACUUM PUMP, 8.5 KW
10 HP rotary vane vacuum pump by Busch
USED:Kinney liquid ring vacuum pump, model 125-KSS, ski
Perkin-Elmer Ion Pump Vacuum Chamber Bell Jar System
Leybold/Oerlikon TMP 1100C turbo pump ” REFURBISHED ”
LAMSON 100HP BLOWER
Holmes HV1000 Blower Vacuum Pump 700.0 CFM
Holmes HV1250 Blower Vacuum Pump 875.0 CFM
OSAKA VACUUM HELICALGROOVED PUMP, Model TS443BW
Stainless Steel/Copper Baffle for Diffusion Pump 35″ASA
Busch Panda Blower WV1000
NASH DUPLEX VACUUM PUMP PACKAGE
LEYBOLD-HERAEUS WA2000 ROOTS VACUUM PUMP – REFURBISHED
VACU-VEST #20 VACUUM INVESTMENT MIXER WITH BUSCH PUMP
Edwards BOC L70 Dry Semiconductor Vacuum Pump
Leybold TRIVAC D65BCS / WS501 Roughing Pump and Roots B
Tuthill vacuum air blower pump compressor 7018-21L2++++
Oerlikon Leybold TW 701 Vacuum Turbo Pump
Rebuilt by Oerlikon Leybold with a one year warranty.
Edwards iQDP80 Dry Semiconductor Vacuum Pump w iQMB-500
APPLIED MATERIALS, AMAT 0010-21668 PVD magnet. New
NASH TCM3 VACUUM PUMP 30 HP